GCK-Si 硅片
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GCK-Si硅片：
硅窗口片的透过范围是1.2μm-8μm，主要用于6μm以内的红外窗口片和光学滤光片的基片。由于该材料导热性能好、密度低，也是制作激光反射镜的常用材料。主要用于PVD/CVD镀膜做衬底用作XRD(X射线衍射分析)、SEM(扫描电镜)、AFM(原子力显微镜)、FTIR红外、荧光光谱等分析测试基底；同步辐射实验样品载体；分子束外延生长的基底；半导体光刻工艺等。
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